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地址：山東省諸城市密州街道工業(yè)大道
名稱：CXXG斜管沉淀池
詳細(xì)信息
（一）基本概述
斜板（管）沉淀池是根據(jù)淺池沉淀理論設(shè)計(jì)出的一種組合式沉淀池；也統(tǒng)稱為淺池沉淀池。在沉降區(qū)域設(shè)置許多密集的斜管或斜板，使水中懸浮雜質(zhì)在斜板或斜管中進(jìn)行沉淀，水沿斜板或斜管上升流動(dòng)，分離出的泥渣在重力作用下沿著斜板（管）向下滑至池底，再集中排出。這種池子可以提高沉淀效率50～60%，在同一面積上可提高處理能力3～5倍。可根據(jù)原廢水的試驗(yàn)數(shù)據(jù)來設(shè)計(jì)不同流量的斜管沉淀器，使用時(shí)一般都要投加凝聚劑。 斜管沉淀凈水法是在泥渣懸浮層上方按裝傾角60度的斜管組建，便原水中的懸浮物，固體物或經(jīng)投加混凝劑后形成的絮體礬花，在斜管底側(cè)表面積積聚成薄泥層，依靠重力作用滑回泥渣懸浮層，繼而沉入集泥斗。由排泥管排入污泥池另行處理或綜合利用。上清液逐漸上升至集水管排出，可直接排放或回用。
（二）設(shè)備特點(diǎn)
1、結(jié)構(gòu)簡單、無易損件、經(jīng)久耐用、減少維修。 2、運(yùn)行穩(wěn)定、容易操作。 3、動(dòng)力少、節(jié)約能源。 4、占地省、投資少、上馬快、效率高。5停留時(shí)間短，沉淀效果高，處理效率高，曝氣強(qiáng)度低，不需污泥回流。
（三）使用范圍
1、電鍍廢水中含多種金屬離子的混合廢水、鉻、銅、鐵、鋅、鎳等去除率均在90%以上，一般電鍍廢水經(jīng)處理后均可達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。 2、煤礦、選礦廢水可使?jié)岫仍?00-1500毫克/升降至5毫克/升。 3、印染、漂染等廢水色度去除率70-90%，COD去除50-70%。 4、制革、食品等行業(yè)廢水大量有機(jī)質(zhì)的去除，COD去除率50-80%，雜質(zhì)固體去除率90%以上。 5、化工廢水的COD去除率60-70%，色度去除60-90%，懸浮物達(dá)排放標(biāo)準(zhǔn).
（四）技術(shù)參數(shù)
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規(guī)格型號(hào)
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CXXG-5
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CXXG-10
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CXXG-15
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CXXG-20
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CXXG-25
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CXXG-30
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CXXG-40
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CXXG-50
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處理能力（T/H）
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5
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10
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15
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20
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25
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30
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40
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50
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設(shè)備尺寸（米）
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2.5*2*3.5
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2.5*2.5*4
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5*2.5*4
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6*3*4.5
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8*3*4.5
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8*3.5*4.5
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10*3.5*4.5
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12*3.5*4.5
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1.斜管、斜板材料：玻璃鋼（FRP）聚氯乙烯（PVC）聚乙烯（PE）聚丙烯（PP）
2.斜管斷面一般為正六邊形，斜板斷面可為平行板，亦可為正弦波形板。
3.斜管（板）頂部以上清水區(qū)高度為1.0—1.5m，底部以下配水區(qū)高度不小于1.0—1.5m。機(jī)械排泥時(shí)，配水區(qū)高度應(yīng)大于1.6m，便于安裝和檢修。
4.斜管（板）中水流的Re數(shù)小于500，F(xiàn)r數(shù)為10-3—10-5，
5.斜管設(shè)計(jì)流速為1.0—4.0mm/s，斜板為10-20mm/s。
2.斜管斷面一般為正六邊形，斜板斷面可為平行板，亦可為正弦波形板。
3.斜管（板）頂部以上清水區(qū)高度為1.0—1.5m，底部以下配水區(qū)高度不小于1.0—1.5m。機(jī)械排泥時(shí)，配水區(qū)高度應(yīng)大于1.6m，便于安裝和檢修。
4.斜管（板）中水流的Re數(shù)小于500，F(xiàn)r數(shù)為10-3—10-5，
5.斜管設(shè)計(jì)流速為1.0—4.0mm/s，斜板為10-20mm/s。
（六）安裝使用
1.斜管安裝時(shí)應(yīng)用膠液或電粘接等方法粘接固定。平行板斜板則用支持架固定，波形斜板用穿心螺桿固定。
2.安裝時(shí)傾斜方向不應(yīng)使水流直沖斜管（板）。
3.定期沖洗，合理管理，降低因生物膜瘋長引起堵塞現(xiàn)象。
4.斜管（板）平面不得承受集中負(fù)荷。
5.不得在安裝有斜管（板）區(qū)域內(nèi)使用明火。
1.斜管安裝時(shí)應(yīng)用膠液或電粘接等方法粘接固定。平行板斜板則用支持架固定，波形斜板用穿心螺桿固定。
2.安裝時(shí)傾斜方向不應(yīng)使水流直沖斜管（板）。
3.定期沖洗，合理管理，降低因生物膜瘋長引起堵塞現(xiàn)象。
4.斜管（板）平面不得承受集中負(fù)荷。
5.不得在安裝有斜管（板）區(qū)域內(nèi)使用明火。
（七）沉淀原理
斜板、斜管統(tǒng)稱為淺池沉淀池，是建立在淺池沉淀原理基礎(chǔ)上的。設(shè)有一理想沉淀池，池窖V，表面積A，池長L，寬=B，高=H，處理水量Q，停留時(shí)間t，沉降速度U0。則V=Qt，H=Uot，Q=Uot/H=U0A由淺池沉淀原理可知：沉淀效率僅為沉淀池表面積的函數(shù)，而與水深無關(guān)。當(dāng)沉淀池容積為定值時(shí)，池子越淺則A值越大，沉淀效率越高。所以，如果將沉淀池按高度分隔為n層，即分隔為n個(gè)高度為h=H/n的淺層沉降單元，在Q不變的條件下，顆粒的沉降深度由H減小到H/n，則沉淀池中可被完全除去的顆。粒沉速范圍由原來的u U0擴(kuò)大到u U0/n，沉速u<U0的顆粒中能被除去的分率也由u/U0增大到nu/U0，從而使該沉淀池懸浮顆粒去除率比原來增大了n倍。顯然，分隔的淺層數(shù)越多，去除率也相應(yīng)提高。將這一原理可制成斜板或斜管沉淀池。
斜管沉淀池
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